匿名
据中国电子工程设计院有限公司9月18日称：网传清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。
不管怎么讲，国产高端光刻机是时候要抓紧上马了。
这个HEPS很厉害了，基础科学的重大突破，没有它不能进入更微观的世界开展研究。
此项目为北京怀柔的中国电子院高能同步辐射光源(HESP)，而不是雄安新区的清华大学稳态微聚束极紫外光源(SSMB)，两个项目为不同项目。
理解大家迫切的心情，但还是要坚持实事求是。
能解决光源的问题，是科研，离运用还早，这事急不得。
虽然我不懂，但这样的好事必须要点赞，加油！！！
